황산니켈 용 R-T-R 도금에 적합하며 요구하는 P함량에 따라 (7~18%) 조정하여 사용할 수 있으며, 높은 내식성을 얻기 위해 사용한다. Characteristic: 전해 | 고속 Glossiness: 광택

썰파민산니켈 용 R-T-R 및 판재 도금에 적합하며 낮은 내부응력과 높은 전류 효율을 얻을 수 있다. 전기적 성형이나 기계 부품의 두꺼운 도금에 이상적인 공정이다. Characteristic: 전해 | 고속 G

썰파민산니켈 용 R-T-R 도금에 적합하며 Gold Flash 하지 도금으로 사용할 때 도금층의 석출 결정 방향을 바꿔 내식성을 한 단계 향상시킨다 (황을 포함하지 않음). Characteristic: 전해 |

썰파민산니켈 용 Rack, Barrel 도금에 적합하며 낮은 내부응력, 높은 전류 효율이 장점이다. 반 광택 및 광택 모두 사용 가능하다. Characteristic: 전해 | 저속 Glossiness: 반광택

황산니켈 용 Rack 도금에 적합하며 높은 금속분포율과 좋은 광택 및 레벨링을 얻을 수 있다. Characteristic: 전해 | 저속 Glossiness: 광택 Optimal Temp(°C): 50~70(6

황산니켈 용 Barrel 도금에 적합하며 높은 금속분포율과 좋은 광택 및 레벨링을 얻을 수 있다. Characteristic: 전해 | 저속 Glossiness: 광택 Optimal Temp(°C): 50~70

태양전지 전극 니켈 도금용도로 사용되며, 높은 연성과 낮은 내부응력의 도금층을 얻을 수 있다. Characteristic: 전해 | 저속/고속 Glossiness: 반광택 Optimal Temp(°C): 35~